使用鍍膜機(jī)時(shí)如何控制薄膜均勻度

　　鍍膜機(jī)有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)，在高真空狀態(tài)下通過(guò)高溫金屬熔體鋁蒸發(fā)，鋁蒸鍍到塑料薄膜的表面上，使金屬設(shè)備表面的塑料薄膜。

　　鍍膜機(jī)可以直接驅(qū)動(dòng)的蒸發(fā)源，通過(guò)PID控制回路傳動(dòng)擋板，使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過(guò)程。但（QCM）的準(zhǔn)確性是有限的，鍍膜機(jī)部分原因是其監(jiān)測(cè)代替光學(xué)厚度的涂層質(zhì)量。此外，雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定，但溫度高，它將成為對(duì)溫度很敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過(guò)程中，鍍膜機(jī)很難避免傳感器為敏感的區(qū)域，導(dǎo)致薄膜的重大錯(cuò)誤。

　　隨著鍍膜技術(shù)的快速增長(zhǎng)，各種類(lèi)型的鍍膜機(jī)也開(kāi)始逐漸出現(xiàn)。但是論起薄膜的均勻性，恐怕沒(méi)有哪一種鍍膜機(jī)是一定均勻的。通過(guò)真空狀態(tài)下正交磁場(chǎng)使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車(chē)燈鍍膜機(jī)廠家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關(guān)的有真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、氬氣這三個(gè)方面。

　　真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來(lái)控制的，每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開(kāi)動(dòng)并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了，壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制，太短會(huì)造成真空度不夠，但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源，不過(guò)有真空計(jì)的存在，要控制好還是不成問(wèn)題的。